樣品均勻性
采用真空斬拌工藝確保質(zhì)地均勻
制備過(guò)程使用篩網(wǎng)去除大顆粒
抽樣檢查時(shí)進(jìn)行多點(diǎn)取樣驗(yàn)證
局部彈性測(cè)量值異常(如肉塊處測(cè)得值偏高)
組織結(jié)構(gòu)不均(如未充分打碎的肉塊)
氣泡或水分分布不均
影響因素:
影響表現(xiàn):
控制措施:
樣品形狀與尺寸
使用專用模具定型
配備樣品尺寸測(cè)量卡尺
形狀不規(guī)則導(dǎo)致接觸面積變化>15%
尺寸過(guò)小易產(chǎn)生邊緣效應(yīng)
圓柱體:直徑20-30mm,高度15-25mm
立方體:邊長(zhǎng)15-20mm
標(biāo)準(zhǔn)要求:
偏差影響:
解決方案:
樣品存放條件
pH值>7.0時(shí)彈性下降明顯
表面黏液增多預(yù)示蛋白質(zhì)變性
溫度:4±1℃(短期)/ -18℃(長(zhǎng)期)
濕度:相對(duì)濕度75-85%
時(shí)間:解凍后2小時(shí)內(nèi)測(cè)試
關(guān)鍵參數(shù):
變質(zhì)特征:
儀器校準(zhǔn)
發(fā)現(xiàn)漂移>1%立即停用檢修
校準(zhǔn)后需做標(biāo)準(zhǔn)樣品驗(yàn)證
每日:50g標(biāo)準(zhǔn)砝碼驗(yàn)證(誤差<±0.5%)
季度:廠家全量程校準(zhǔn)
校準(zhǔn)規(guī)范:
校準(zhǔn)異常處理:
儀器清潔
探頭殘留物<0.1mg/cm2
平臺(tái)光潔度Ra≤0.8μm
清潔標(biāo)準(zhǔn):
清潔流程:
測(cè)試后立即用去離子水擦拭
75%酒精消毒
軟布擦干并檢查殘留
溫度控制
配備恒溫試驗(yàn)臺(tái)
樣品提前30分鐘平衡溫度
實(shí)驗(yàn)室環(huán)境:20±2℃
樣品測(cè)試溫度:15-25℃
要求范圍:
溫控措施:
濕度管理
使用除濕/加濕一體機(jī)
密閉測(cè)試艙(選配)
濕度>60%:樣品吸水量可達(dá)3%
濕度<40%:樣品表面脫水結(jié)皮
標(biāo)準(zhǔn)范圍:相對(duì)濕度50±5%
超標(biāo)影響:
調(diào)控方法:
參數(shù)設(shè)置基準(zhǔn)
測(cè)試項(xiàng)目 | 推薦參數(shù) | 允許偏差范圍 |
---|---|---|
測(cè)試速度 | 1-2mm/s | ±0.2mm/s |
觸發(fā)力 | 樣品重量的1% | ±0.5g |
壓縮量 | 樣品高度的50% | ±2% |
樣品放置規(guī)范
使用對(duì)中定位環(huán)(選配件)
配置激光定位輔助系統(tǒng)
對(duì)中要求:偏差<1mm
驗(yàn)證方法:
糾偏措施:
探頭預(yù)降距樣品2mm時(shí)暫停
觀察投影是否同心
探頭安裝要求
垂直度:<0.5°
緊固度:扭矩2.5±0.2N·m
檢查頻率:每20次測(cè)試后復(fù)核
標(biāo)準(zhǔn)操作流程
環(huán)境參數(shù)確認(rèn)
儀器狀態(tài)檢查
樣品前處理
參數(shù)設(shè)置驗(yàn)證
測(cè)試過(guò)程監(jiān)控
數(shù)據(jù)復(fù)核存檔
異常數(shù)據(jù)處置
采用魚(yú)骨圖排查法
重點(diǎn)檢查"人機(jī)料法環(huán)"要素
同批次樣品測(cè)試差異>10%
與歷史數(shù)據(jù)偏差>15%
復(fù)測(cè)條件:
根本原因分析:
通過(guò)建立完善的控制體系,可使測(cè)試結(jié)果變異系數(shù)(CV值)控制在5%以內(nèi),滿足SC/T3702-2014等標(biāo)準(zhǔn)要求。建議實(shí)驗(yàn)室配備《魚(yú)糜彈性測(cè)試影響因素控制手冊(cè)》作為作業(yè)指導(dǎo)。