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更新日期：2024-03-22
簡要描述：
日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型使用EXIMA UV光源進行光表面處理，可以對薄膜材料等易受熱的物體進行低溫表面處理，因為被照射物體的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外，光化學反應具有不易損壞工件的特點。
| 品牌 | 其他品牌 | 產品種類 | 臺式 |
|---|---|---|---|
| 數顯功能 | 有 | 溫控功能 | 無 |
| 產地 | 進口 |
日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型
節(jié)省空間的桌面理想之選
高速處理時間
僅 AC100V 電源
配備加工時間設定定時器
門聯鎖設備
配備臭氧消減處理裝置
不使用汞燈
內置高度調節(jié)臺
使用EXIMA UV光源進行光表面處理，可以對薄膜材料等易受熱的物體進行低溫表面處理，因為被照射物體的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外，光化學反應具有不易損壞工件的特點。
潤濕性、親水性、親和性提高
提高接合面的附著力
表面改性
有機物分解清洗
| 產品名稱 | 準分子紫外光處理設備桌面實驗室規(guī)格 |
| 型號 | E172-70 |
| 波長 | 172納米 |
| 光源 | XeEscimer 燈 Φ18 x 120 mm |
| 初始照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連續(xù)照明操作 | 10分鐘內（由于輕巧緊湊的風冷設計） |
| 外形尺寸 | 195 (W) x 380 (D) x 480 (H) 毫米 * |
| 效用 | 電源 AC100V 50 / 60Hz 2A |
| 定期更換零件 | 廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換 |
| 定期檢查 | 高壓電源、光源等 5年或視情況而定 |
日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型
以簡單的系統(tǒng)結構實現低成本和高性能。可以立即打開和關閉。風冷準分子燈是研究和開發(fā)的理想選擇。準分子紫外燈的光學表面處理由于準分子燈的特性，工件的溫度不易升高，因此對薄膜材料等易受熱影響的物體進行精確的低溫表面處理非常出色。
| 產品名稱 | 實驗準分子 172nm 光源 |
| 型號 | E500-172-110 |
| 波長 | 172納米 |
| 光源 | Xe準分子燈 Φ18 x 120 mm |
| 初始照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連續(xù)照明操作 | 10分鐘內（由于輕巧緊湊的風冷設計） |
| 外形尺寸 | 燈箱 W 200 x H 45 x D 80 mm 電源 W 250 x H 133 x D 200 mm |
| 效用 | 電源 AC100V 50 / 60Hz 2A，臭氧解毒局部排氣 |
| 定期更換零件 | 廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換 |
| 定期檢查 | 高壓電源、光源等 5年或視情況而定 |
